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W. L. Gore & Associates brings decades of unique materials science technology and in-depth application knowledge to the semiconductor industry. Find out where our advanced capabilities are used throughout semiconductor manufacturing processes — from front end to back end.

With decades of unique materials science technology and in-depth application knowledge, W. L. Gore & Associates offers proven solutions that ensure cleanliness, durability and reliability. Find out where our technologies are used throughout semiconductor manufacturing processes.

When it comes to silicon wafer and semiconductor cleaning processes, the industry is shifting to ozone water treatment. It’s friendlier to the environment, doesn’t involve expensive waste treatment and costs less than chemical mixtures. Fortunately, GORE Ozonation Modules from W. L. Gore & Associates go beyond the current benchmark by delivering the cleanest, bubble-free, highest concentration ozone water solution on the market today.

就硅晶圆和半导体清洗工艺而言，业内正在改用臭氧水处理方案。这种方案更环保，不涉及昂贵的废物处理，成本比化学混合物清洗工艺更低。可喜的是，戈尔公司(W. L. Gore & Associates)提供的GORE臭氧化模组比目前市场上的溶解臭氧方案更胜一筹，提供目前市场上更洁净、无气泡且浓度更高的臭氧水制备方案。戈尔模组久经验证，是改进半导体晶圆清洗和平板显示器制造工艺、更环保的可靠解决方案。

如需了解更多技术信息，请下载数据表或立即联系戈尔销售代表。

シリコンウエハーおよび半導体の洗浄プロセスでは、業界としてオゾン水処理へのシフトが進んでいます。混合薬液よりも環境に配慮されており、廃液処理を必要としないため、低コストで処理することができます。ゴアのオゾネーションモジュールは、今日のマーケットにおいて、高清浄度、無気泡（バブルフリー）、高濃度のオゾン水溶液を生成する唯一のモジュールです。このモジュールは、半導体ウエハー洗浄とフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造プロセスを向上させる、信頼性が高く、より環境に配慮したソリューションであることが実証されています。

さらに詳しい技術情報については、データシートをダウンロードするか、こちらよりゴアの担当者にお問い合わせください。