필터 제품

웨이퍼 팹에서 적은 수의 필터를 사용하여 입자제거능력을 향상시킬 수 있습니다

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한 실리콘 웨이퍼 제조업체는 새로운 DI 루프를 위해 0.1 µm 필터를 시험하였다. 고어®0.02 µm 필터를 사용하여 기존 대비 1/10시간에 필요한 입자조건에 도달하였고 2년간 사용한 후에도 저입자수준을 지속적으로 유지하고 있습니다.


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장점

  • 전체 시스템 실시가능
  • 스펙을 넘어서는 수질
  • 10배 향상된 세척시간

상황

실리콘 반도체를 제조하는 한 업체는 신규 DI루프의 성능이 나오지 않아 어려움을 겪고 있었습니다. 4개 업체로 부터 5개 필터를 받아 시험해 보았으나 적절한 시간내에 입자수량 조건에 맞는 세척을 하는 필터는 하나도 없었습니다. 0.1 μm 의 최상의 필터는 30일이후에 입자수량 조건을 만조시켰습니다.

시스템은 2개의 루프로 구성되어 있는데, 그 하나는 DI루프이고 나머지는 UPW 루프입니다.

  • DI loop: 32 CMH, two (2) 12-round housings, 24 40-inch 0.1 μm filters, 1,000 cts/L at 0.1 μm
  • UPW loop: 45 CMH, UF modules, 300 cts/L at 0.05 μm

해결책

고어® 0.02 μm 필터가 DI루프에 설치되었는데 40”카트리지 5개와 7개 빈통이 각 하우징에 사용되었다. 입자제거성능은 DI루프 스펙을 훨씬 초과하였으며 UF모듈을 사용하는 UPW루프와 비교하여 보았다.

결과

  • 입자제거성능은 UF모듈과 비등하였다.
  • 소요되는 필터수는 24개에서 10개로 줄였다.
  • 다른 최상의 0.1 μm 필터대비 1/10시간내에 세척이 완료되었다
  • 설치 2년이 지난 후에도 고어®필터를 사용하는 DI루프는 저입자수량 수준을 유지하고 있습니다